Принцип лазерной очистки!

В середине 80 - х годов такие ученые, как беклемышев и Allrn, объединили лазерную технологию с технологией очистки в соответствии с фактическими потребностями работы и провели соответствующие исследования. С тех пор возникла техническая концепция лазерной очистки. Хорошо известно, что связывающая сила между загрязнителями и субстратами подразделяется на ковалентные связи, двойные диполяры, капиллярные действия и силы ван дер ваалов. Если эти силы удастся преодолеть или уничтожить, то эффект обеззараживания будет достигнут.

Лазерная очистка использует такие характеристики лазерных лучей, как высокая плотность энергии, контролируемое направление и высокая способность к сближению с целью уничтожения связывающей силы между загрязнителями и субстратами или прямого испарения загрязнителей для удаления загрязнителей, уменьшения связующей силы между загрязнителями и субстратами и, таким образом, достижения эффекта очистки поверхности изделия. Принципиальная схема лазерной очистки показана на рис. 1. Когда загрязнители на поверхности изделия поглощают энергию лазера, они быстро испаряются или расширяются мгновенно из-за тепла, чтобы преодолеть силу между загрязнителями и поверхностью субстрата. В результате увеличения тепловой энергии частицы-загрязнители вибрируют и падают с поверхности субстрата.

Весь процесс лазерной очистки грубо разделен на четыре этапа, а именно: лазерная газификация разложения, лазерная полоска, тепловое расширение загрязняющих частиц, вибрация поверхности субстрата и отслоение загрязняющих веществ. Разумеется, при применении лазерной очистки внимание следует также уделять пороговому значению лазерной очистки очищаемого объекта, а для достижения наилучшего эффекта очистки следует выбрать соответствующую длину лазерной волны. Лазерная очистка может изменить структуру зерна и направление поверхности субстрата без повреждения поверхности субстрата, а также может контролировать неровность поверхности субстрата, тем самым повышая комплексные характеристики поверхности субстрата. Эффект очистки зависит главным образом от таких факторов, как характеристики луча, физические параметры субстрата и загрязняющих материалов, а также способность загрязнителя поглощать энергию луча. В настоящее время технология лазерной очистки включает три метода очистки: технологию сухой лазерной очистки, технологию мокрой лазерной очистки и технологию лазерной плазменной ударной волны.

1. Химическая лазерная очистка предназначена для непосредственного облучения изделия импульсным лазером, с тем чтобы субстрат или поверхностные загрязнители поглощали энергию и повышали температуру, что приводит к тепловому расширению или субстратной тепловой вибрации, разделяя тем самым эти два фактора. Этот метод примерно разделен на два случая: первый заключается в Том, что поверхностные загрязнители поглощают лазерное расширение; Другая заключается в Том, что субстрат поглощает лазер для получения тепловой вибрации.

2. Влажная лазерная очистка предназначена для предварительного облицовки поверхности обрабатываемого изделия до облучания обрабатываемого изделия импульсным лазером. Под действием лазера температура жидкой пленки быстро поднимается и испаряется. В момент испарения образуется ударная волна, которая воздействует на частицы-загрязнители и вызывает их падение с подложки. Этот метод требует, чтобы субстрат и жидкая пленка не реагировали, поэтому диапазон материалов применения ограничен.

3. Лазерная плазменная ударная волна — сферическая плазменная ударная волна, возникающая при проходе через воздушную среду при лазерном облучении. Ударная волна воздействует на поверхность подлежащего очистке субстрата и высвобождает энергию для удаления загрязняющих веществ; Лазер не действует на субстрат, поэтому он не повреждает субстрат. Технология лазерной плазменной очистки ударных волн теперь позволяет очищать загрязнители частиц размером с десятки нанометров, и никаких ограничений на длину лазерной волны не существует.

При фактическом производстве следует выбирать различные методы испытаний и связанные с ними параметры в соответствии с потребностями получения высококачественных очищенных деталей. В процессе лазерной очистки важными критериями для определения качества лазерной очистки являются эффективность и оценка качества очистки поверхностей.

Ссылки на соответствующие продукты

Машина для лазерной сварки волокон